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Veeco
离子溅射镀膜机
划片切割设备
 
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等离子体电源及反应气体发生器
 
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等离子喷射
 
  Sputtering Components
 
薄膜设计软件
 
Spector 离子溅射镀膜机：

配有高速夹具的标准
双离子束溅射光学镀膜机


配有高速夹具的标准双离子
束溅射光学镀膜机的内部真空室
SPECTOR双离子源溅射光学镀膜系统是当今世界上最先进的高精度光学薄膜沉积平台。SPECTOR被广泛应用于各个工业生产领域，包括光通信行业，精密光学以及半导体行业。

SOURCERER系统管理器是SPECTOR提供的具有独特实时动画图形显示界面，它能提供比市场上其它任何离子束系统控制软件包更强的控制能力和更好的灵活性。根据客户实际需要，有多种硬件配置选择。你可以选择不同的样品夹具，其中包括：

    1. 行星夹具
    2. 高速旋转夹具
    3. 可翻转夹具

SPECTOR装配有水冷却的材料靶。根据你的需要，可以有3个靶材或者4个靶材的选择。更多的材料选择提高生产制作能力。4靶材配置专门为分级折射率膜层所使用。

各种配置的选择可以提高你的系统生产力以及提高系统的制备能力。可以根据你不同的领域以及技术进行配置。
配有两个大面积行星盘的非标准双离子束溅射光学镀膜机
配有预真空室的双离子束溅射光学镀膜机


Sourcerer 离子源管理系统
Sourcerer是现时最先进的薄膜沉积控制系统。使用全可视化触摸屏操控。提供全自动或者手动的控制模式，还可以连接网络实现远程控制。Sourcerer提供最广泛的综合数据分析。通过分析设备的各种数据了解生产过程中的各种细节变化。


设备配置选择以及相应附件
行星夹具
为提高生产量，行星夹具能提供最大限度的镀膜范围。其独特的几何结构，SPECTOR行星夹具能在不使用修正板的情况下，提供极好的薄膜均匀性
单轴旋转高速夹具
高速夹具提供最灵活最精确的膜层均匀性控制。高速旋转基片能得到相当高的薄膜均匀性，它能满足大面积的DWDM基片制备。根据客户样品的尺寸，可以在12英尺直径的基片夹具上，安装不同形状的各种基片。该夹具适用于高精确产品，产品研发以及小批量生产使用。
可翻转夹具
单轴旋转的夹具上面配备有六片可以随时翻转的桨片。使用这种夹具可以在不破坏真空环境的情况下镀制样品的两面。这种方式主要使用于激光应用。减少环境对薄膜质量的影响。同时还可以提供生产效率。


薄膜厚度监控系统
激光光学监控
使用可调激光光源精确控制镀膜厚度。激光光学监控系统（OMS）提供全自动的控制界面。支持标准四分一波长厚度以及非标准厚度的监控。适合使用于要求高精度的薄膜设计：DWDM, CWDM, GFF, 增透/高反, 带通滤光片等等。
宽光谱光源光学监控
提供最灵活的光学监控方案。监控薄膜范围达到400nm-2000nm。 监控系统通过监控光以及参考光对比计算精确的光学数据。支持标准四分一波长厚度以及非标准厚度的监控。宽光谱提供最灵活的波长选择。和激光监控一样，操作界面为全自动可视界面。
   
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