12厘米射频离子源

    12cm RF离子源非常适合用于长时间连续的反应过程，它具有很宽的工作范围（50 到1500eV, 50 到500mA）。这些源特别适合用于离子束辅助或高度控制光学涂层的离子束沉积。功率从低到中等的操作需要水冷。它适合于反应和惰性操作。12cm RF离子源是行业中仅有的无灯丝RF .中和器，它很小需要维护并具有长期工作。稳定和有效的等离子操作具有精确地控制和很高的再生能力。

Mark I无栅型离子源

    Mark I非常适用于小型R&D和试验性生产系统中预清洗/辅助沉积。对于宽范围的薄膜，Mark I离子源提供了用于控制膜压力和化学计量的高速射束电流。它适合于反应和惰性气体以及高功率密度的应用。灵活的一体化结构使系统设计得非常紧凑并有很大的射束孔径角。

圆形层状阳离子源

    这种圆形的高功率无栅型源是Veeco工作范围最宽的离子源。射束的能量可在100到1800eV之间，电子束流为30mA /linear cm，这种高功率无栅源广泛适合于各种应用，如眼科，高精度光学，半导体和数据存储。

3厘米直流离子源（ITI）

    3cm DC（ITI）离子源是紧凑而经济的离子源，它非常适合用于更小几何尺寸的真空系统的清洗，蚀刻，蚀纹和溅镀或增强沉积。灯丝和栅网易于维护。设备的低功率提供了辐射散热的经济工作方式。该离子源最适合用于非反应过程。离子源的灯丝阴极能在惰性环境下长时间工作或在反应环境下短时间工作，它具有工作方式的灵活性。。在惰性环境下，灯丝工作时间可为5到50小时，而中空阴极可工作150小时以上。

11厘米直流离子源

    一般而言，11cm DC离子源用于清洗和蚀刻应用，而它也有很宽的工作范围（50到2000eV，0到350mA），它也非常适合用于离子束溅镀沉积，钻石形涂层或作为工作在低能量下的辅助源。设备功率从低到高的操作，需要水冷。该离子源最适合用于非反应过程。它具有工作的灵活性，能在惰性环境下长时间工作或在反应环境下短时间工作。在惰性环境下，灯丝工作时间可为5到50小时，而中空阴极可工作150小时以上。

16厘米射频离子源

    16cm RF离子源非常适合用于长时间连续的反应过程，它具有很宽的工作范围（50 到1500eV, 50 到500mA）。这些源特别适合用于离子束辅助或高度控制光学涂层的离子束沉积。功率从低到中等的操作需要水冷。它适合于反应和惰性操作。12cm RF离子源是行业中仅有的无灯丝RF .中和器，它很小需要维护并具有长期工作。稳定和有效的等离子操作具有精确地控制和很高的再生能力。

Mark II无栅型离子源

    Mark II离子源是用于光学涂层和最广泛使用的辅助源的工业标准。对于宽范围的薄膜，Mark II离子源提供了用于控制膜压力和化学计量的高速射束电流。它适合于反应和惰性气体以及高功率密度的应用。灵活的一体化结构使系统设计得非常紧凑并有很大的射束孔径角。

圆柱状磁电管（Cylindrical）

    Ion Tech为把他们的离子束经验用于我们的等通量圆柱状磁电管。这种溅镀源采用围绕具有涂层材料的基片的圆柱形靶子。ICM用来作为复杂的3维形状外套，它的连线和光纤设计比平坦的磁电管更为有效，并能提供很高的沉积速率，极佳靶子利用效率以及更小的当机时间和相对较低成本的靶子。

5厘米直流离子源

    5cm DC离子源是中型经济的离子源，它非常适合用于工作条件范围很宽的各种应用（50到2000ev，20到200mA）。这些应用的范围包括清洗或离子束辅助/增强沉积应用，需要适度高能量的贯穿蚀刻，需要高能量，高电流密度工作条件的沉积处理。功率从低到中等的操作需要水冷。5cm DC离子源最适合用于非反应过程。它具有工作的灵活性，能在惰性环境下长时间工作或在反应环境下短时间工作。在惰性环境下，灯丝工作时间可为5到50小时，而中空阴极可工作150小时以上。

12厘米直流离子源

    12cm DC离子源非常适合用于工作条件范围很宽的各种应用（50到2000ev，30到300mA）。这些应用的范围包括清洗或离子束辅助/增强沉积应用，需要适度高能量的贯穿蚀刻，需要高能量，高电流密度工作条件的沉积处理。设备的功率中设备功率从低到高，为辐射式制冷。5cm DC离子源最适合用于非反应过程。双灯丝阴极增加了可靠性并且OPTILIN的自动调整栅网具有离子束再生特性。

6 x 66厘米射频离子源

    6 x 66cm RF离子源很少需要维护，为了能长时间连续运行可在100%氩、氧和其它反应气体里无灯丝地工作。它非常适合于大规模基片的均匀加工。功率低到高的操作需要水冷。它适合于反应和惰性操作。6 x 66cm RF离子源是行业中仅有的无灯丝RF .中和器，它很小需要维护并具有长期工作。稳定和有效的等离子操作具有精确地控制和很高的再生能力。

线形层状阳离子源

    线状高功率无栅型源是Veeco工作范围最宽的离子源。射束的能量可在100到1800eV之间，电子束流为30mA /linear cm，这种高功率无栅源广泛适合于各种应用，如结构化/自动加玻璃，平板显示器，网状涂层，眼科，高精度光学和半导体。